重大消息!工信部直接发文推广国产光刻机,这证明商用很成功

  内容中提到"氟化氩光刻机(ArF DUV)",分辨率≤65nm,套刻≤8nm。   所谓套刻精度,就是常说的"多重曝光能达到的 精度"。
  如果按套刻精度与量产工艺1:3的关系,那么这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。   这也就说明,国产28nm光刻机已经被攻克下来。   虽然跟国外先进制程水平还有差距,但至少能满足90%以上的需求。
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